金庸（yōng）十六招式趣味解讀（dú）手板模型工藝

發布日期：2016-04-11 08:03:04

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葵花（huā）寶（bǎo）典——真空電鍍

真空電鍍（Vacuum Metalizing）：一種物理沉積現象。即（jí）在真空狀態（tài）下注入氬（yà）氣，氬（yà）氣撞擊靶材，靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成（chéng）一層均（jun1）勻光滑的仿金屬表麵層。

典型（xíng）產品：反射塗層，消（xiāo）費（fèi）電子產品和隔熱板的表麵處理
產量適合：單件到大（dà）批（pī）量（liàng）皆可（kě）
質量：高質量，高亮和產品表麵保護層
速度：中等的（de）生產速度，6小時/周期（包括噴漆）
適用材料：1、很多（duō）材料可以進行真（zhēn）空（kōng）電鍍，包括金屬，軟硬塑料，複合材料，陶瓷和玻璃。其中最常見用於電鍍表麵處理的（de）是鋁材，其次是銀和（hé）銅。

2、自然材料不適合進（jìn）行真空電鍍處理，因為自然材料本身的水分會影響真空環境

工藝成本：真空電鍍非常依（yī）賴（lài）人工操作，真（zhēn）空電鍍過程中，工件需要（yào）噴塗，裝載（zǎi），卸載和再噴塗，所以人力成本相當高，但是（shì）也取決於工件的複雜度和數量（liàng）。
環境影響：真空電鍍對環境汙染很小，類（lèi）似於噴（pēn）塗對環境的影響（xiǎng）。

實（shí）例展示：

香水瓶的真空電鍍

獨孤（gū）九劍——電解拋光

電解拋光（Electropolishing）：以被拋光工件（jiàn）為陽極（jí），不溶性金屬為陰極，兩極同時（shí）浸入到電解（jiě）槽中，通以直流電離反應而產生有選擇性的陽極溶解（jiě），從而達到工件表麵除去細微毛刺和光亮度增大的效果。

典型產品：建築（zhù）結構，食物處理儲存和醫療製藥
產量適（shì）合（hé）：單件到大批量皆可（kě）
質量：表麵高亮，光滑且衛（wèi）生
速度：中等的生產速度，5-30分鍾/周期
適用材料：1.大多數金（jīn）屬都可以被電解拋光，其中最常用於（yú）不鏽鋼（gāng）的表麵（miàn）拋光（尤其適（shì）用（yòng）於奧氏體核（hé）級不鏽鋼）。

2.不同材料（liào）不可同時進行電解拋光，甚（shèn）至不可以放在同一個電解（jiě）溶劑裏。

工藝成本：電解拋光整個過程基本由自動化完成，所以人工費用（yòng）很低。
環境影（yǐng）響：電解拋光采（cǎi）用危害較小的化（huà）學物質，整個過程需要少量的水且操作簡單（dān），另外可以延長不鏽鋼的屬性（xìng），起（qǐ）到讓不鏽鋼延緩（huǎn）腐蝕的作用。

實例展示

其他產品電解拋光

九陰真經——光蝕刻表麵處理

光蝕刻表麵處理（Photo Etching）：簡（jiǎn）稱光刻，利用（yòng）照相手段（duàn）製（zhì）作抗蝕膜（mó）像，用來保護表麵，在金屬、塑料等上麵，借助化學腐蝕（shí）劑進行腐（fǔ）蝕產生表麵紋理的方法。

典型產品：用於珠（zhū）寶首飾，銘牌和獎杯的表麵處理
產（chǎn）量適合：單件到大（dà）批量皆可
質量（liàng）：延（yán）長曝光和化（huà）學物質（zhì）都可（kě）以實（shí）現光蝕刻表麵處理（lǐ）
速度：中等的生產速度（50-100微米/5分鍾）
適用（yòng）材料：1.大多是金屬都適合光蝕刻表麵處理，最常見的有（yǒu）不鏽鋼，軟鋼，鋁，黃（huáng）銅，鎳，錫（xī），銅和銀。其中鋁材的光蝕刻速度最快，而不鏽鋼的光蝕刻速度（dù）最慢。

2.玻（bō）璃，陶瓷（cí）也適合光蝕刻表麵處理，隻是需要不同的光（guāng）阻蝕劑和化（huà）學物質。

工藝（yì）成本：1.模具費用低2.人力（lì）成本中等
環境影響：光蝕刻產生的金屬廢屑須做可控回收（shōu）;用於光蝕刻的化學物質還有三（sān）分（fèn）之一（yī）的氯化鐵，而且也會用苛性鈉（火堿）來處（chù）理廢棄的感光膠片，這兩種化學物質都是有害的，所以（yǐ）操作人員在處（chù）理時需要穿（chuān）防護服。

實例展示

金屬標牌的光蝕刻

九（jiǔ）陽神功——移印工藝

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