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金庸十(shí)六招式趣味解讀手板模型工藝
發布日期:2016-04-11 08:03:04
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1
葵花(huā)寶(bǎo)典——真空電鍍
真空電鍍(dù)(Vacuum Metalizing):一種物理(lǐ)沉積現象。即在真空狀態下注入氬氣,氬氣撞(zhuàng)擊靶(bǎ)材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層(céng)均勻光滑的仿(fǎng)金屬表麵層(céng)。
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典型產品:反射塗層,消費電子產品和隔熱板的表麵(miàn)處理
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產量適合(hé):單件(jiàn)到大批量皆可
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質量:高質量,高亮和產品表麵(miàn)保護層
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速度:中等的生產速度,6小時/周期(包括噴漆)
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適用材料:1、很多材料可(kě)以進行(háng)真空電鍍,包(bāo)括金屬(shǔ),軟硬(yìng)塑料,複合材料,陶瓷和玻璃。其中最常見用於電鍍表(biǎo)麵處(chù)理的是鋁材,其次是銀和銅。
2、自然材料不適合進行真空電(diàn)鍍處理(lǐ),因為自然材料本身的水分會影響真空環境
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工藝(yì)成本:真空(kōng)電鍍非常依賴(lài)人工操作,真空電鍍過程中,工(gōng)件需要噴塗,裝載,卸載和再(zài)噴塗,所以人力成本相當高,但是也取決於工件的(de)複雜(zá)度和數量。
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環境(jìng)影(yǐng)響:真空電鍍對環境汙染很小,類似於噴(pēn)塗對環境的影響。
實例展示:
香水瓶的真空電鍍
2
獨孤九劍——電解拋光
電解(jiě)拋光(Electropolishing):以被(bèi)拋光工件(jiàn)為陽極(jí),不溶(róng)性金屬為陰極(jí),兩極同時浸入到電解槽中,通以直流電離反應而產生有選擇性(xìng)的陽極溶解,從而達到工件表麵除去細微毛刺和光亮度(dù)增大(dà)的效果。
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典型產品:建築結(jié)構,食物處理儲存和醫療製藥
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產量(liàng)適合:單件到(dào)大批量皆可
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質(zhì)量:表麵高亮,光滑(huá)且衛(wèi)生
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速度(dù):中等的生產速度,5-30分鍾/周期(qī)
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適用材料(liào):1.大(dà)多數金屬都可以被電解拋光,其中最常用於不鏽鋼(gāng)的表麵拋光(尤其適用於奧氏體核級不鏽鋼)。
2.不同材料不可同時進行電解拋光,甚至不可(kě)以放在同一(yī)個電解溶劑裏。
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工藝成(chéng)本:電解拋(pāo)光整個過程基本由自動化完(wán)成,所以人工費用很低(dī)。
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環境影響:電解拋(pāo)光采用危害較小的化學物質,整個過程需要少量的水且操作簡單,另外可以延長不鏽鋼的屬性,起到讓不鏽鋼延緩腐蝕的(de)作用。
實例展(zhǎn)示
其他產品(pǐn)電解(jiě)拋光
3
九(jiǔ)陰真經——光蝕刻表麵處理
光蝕刻表麵處理(Photo Etching):簡稱(chēng)光刻,利用照相手段製作抗蝕膜像,用來保護表麵,在金(jīn)屬、塑料等上(shàng)麵,借助化學(xué)腐蝕劑(jì)進行腐蝕產生(shēng)表麵紋(wén)理的方法。
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典型產品:用於珠寶首飾,銘牌和獎杯的(de)表麵處理(lǐ)
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產量適合:單件到大批量皆可
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質量:延長曝光和化學物質(zhì)都可以實現(xiàn)光蝕刻表麵(miàn)處理
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速度:中等的生產速度(50-100微米/5分鍾)
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適用材料:1.大(dà)多是金屬都(dōu)適合光蝕刻表麵處(chù)理,最常見的(de)有不(bú)鏽鋼,軟鋼,鋁,黃銅,鎳,錫,銅和銀。其中鋁材的光(guāng)蝕刻速度最快(kuài),而不鏽鋼的光蝕刻速度最(zuì)慢。
2.玻璃,陶瓷也適合光蝕刻表麵處理,隻是需要不同的光阻蝕劑和化學物質。
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工藝成本:1.模具費用低2.人力成本中等
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環境影響:光蝕刻產生的金屬廢屑須做可(kě)控回收;用於光蝕刻的化(huà)學物質還有(yǒu)三分之一的氯化鐵,而且也會用苛性鈉(火堿(jiǎn))來處理(lǐ)廢棄的感光膠片,這兩種化學物質都是有害的,所以操作人員在處理時需要(yào)穿防護服。
實例展示
金屬標牌的光蝕刻
4
九陽神功——移印工藝